Плазменное Напыление в Вакууме

Продукция «НПП «ЭСТО»

Назначение:

Установка электронно-лучевого распыления модель ei-5 (ULVAC, INC., Япония) для массового полупроводникового производства.

Система ионно-химического травления NE-550 (ULVAC, INC., Япония) для массового полупроводникового производства.

Система напыления металлических пленок SIH-300RD (ULVAC, INC., Япония) для массового полупроводникового производства.

Мелкосерийное производство с использованием метода осаждения сложных многослойных структур. Производитель оборудования - Polyteknik AS, Дания.

Получение наноструктур с контролируемыми свойствами и параметрами, с использованием метода осаждения под скользящим углом. Производитель оборудования - Polyteknik AS, Дания.

Получение сплавных слоев из высокочистых материалов совместным осаждением испаряемого материала от двух электронно-лучевых источников. Производитель оборудования - Polyteknik AS, Дания.

Назначение:

Производитель оборудования - Polyteknik AS, Дания.

Установки для вакуумного напыления пленок

Развитие высоких технологий и электронной техники напрямую зависит от усовершенствования вакуумных процессов, по этой причине именно вакуумные установки вызывают особенный интерес в сферах микроэлектроники и нанотехнологий. Покрытия, которые наносятся с их помощью, бывают однослойными или же комбинированными на основе любых металлов и соединений металлов (нитриты, оксиды, карбиды). Установки для нанесения напылений различаются между собой технологиями производства. Итак, существуют следующие методики:

  • электродуговое напыление;
  • магнетронное распыление;
  • ионно-плазменное напыление;
  • термовакуумное напыление;
  • термическое испарение.

Вакуумные технологии имеют гибкое применение и позволяют осуществлять замену дефицитных или дорогостоящих материалов на более доступные, пригодны для полной автоматизации и обеспечивают высокое качество материалов покрытий.

Новые возможности напыления

Похожие страницы: