Ионно Плазменная Обработка

АВТОМАТИЗИРОВАННАЯ ВАКУУМНАЯ ИОННО-ПЛАЗМЕННАЯ

23 сентября 2010

Установка оснащена системой подачи отрицательного напряжения смещения (до 1500 В) на обрабатываемые детали с устройством гашения микродуг.

На установке реализуются следующие основные технологические процессы:

•предварительныйнагреви обезгаживание поверхности изделий инфракрасными нагревателями (ТЭН-ами) и

электронным нагревом с использованием плазмогенераторов – ПИНКа, ПИХПКа;

• ионная очистка, травление и активация поверхности изделий дуговой плазмой, генерируемой ПИНКом и ПИХПКом;

• химико-термическаяобработка (азотирование) для формирования на поверхности обрабатываемого изделия диффузионного слоя, обладающего повышенной твердостью и коррозионной стойкостью;

• нанесение электродуговым плазменно-ассистированным методом однослойных и многослойных сверхтвердых (>40Гпа) нанокристаллических покрытий на основе чистых металлов или их соединений (нитридов, карбонитридов, карбидов).

В установке реализуется возможность комбинированного включения в работу всех 4 источников плазмы. Электрические блоки питания всей установки являются частотно-импульсными и занимают один шкаф 19” и высотой 2м. Управление блоками питания дистанционное по интерфейсу RS-485 от системы управления установкой.

Таким образом, «КВАДРО» представляет собой установку, на которой возможно реализовать современные технологические циклывакуумнойионно-плазменной

обработки с параметрами, которые недостижимы при использовании других аналогичных известных установок. Это открывает перспективу создания новых функциональных покрытий с уникальными свойствами.

Похожие страницы: